在提升计算效率,和处理复杂图形方面的巨大潜力。

同时,她也坦诚地指出了,当前算法在收敛性和鲁棒性方面,存在的一些挑战,并提出了自己的一些思考和解决思路。

她的报告,逻辑清晰,论证严谨,既有理论高度,又有实践深度,充分展现了她扎实的学术功底,和敏锐的洞察力。

在场的ASML专家们,听得非常认真,不时有人低头记录,或者提出一些深入的问题。

刘欣都一一给予了耐心而专业的解答。

报告结束后,会议室里响起了热烈的掌声。范德文CTO带头鼓掌,脸上带着由衷的赞赏,和一丝难以掩饰的复杂神色。

“刘博士,您的报告,非常精彩!”他由衷地赞叹道:“您和您的团队,在计算光刻领域取得的进展,令人印象深刻。

特别是您提出的,基于稀疏表示的新算法框架,为我们打开了一扇全新的窗户。”

他顿了顿,话锋一转道:“不过,我注意到,您的报告,主要集中在算法层面。

我们非常好奇,您和您的团队,是否已经将这些算法,应用于实际的曝光系统中?

如果已经应用,效果如何?是否遇到了一些在仿真中,未曾预料到的工程问题?”

范德文的问题,再次精准地指向了,刘欣最想回避的核心,算法与拂晓硬件平台的结合情况。

刘欣心中微微一紧,但脸上依然保持着平静的微笑。

她端起面前的水杯,轻轻抿了一口,然后放下杯子,目光平静地迎向范德文说道。

“范德文先生,您这个问题,问得非常到位。算法,终究是要服务于实际系统的。

我们确实正在进行,算法与硬件平台的集成验证工作。

不过,由于涉及到一些尚未公开的技术细节和商业机密,恕我暂时无法透露具体的情况。”

她顿了顿,然后,仿佛做出了一个重大的决定,缓缓说道:“不过,为了表示我们对与ASML,进行真诚技术交流的诚意,我愿意向各位展示一段,我们最近在内部进行的一次,针对特定测试图案的曝光实验结果。”

她说完,在笔记本电脑上操作了几下,然后投影屏幕上,出现了一张清晰的扫描电子显微镜图像。

图像上,是一排排线条清晰、边缘锐利、间距均匀的纳米级线条。图像的左下角,标注着一行小字: “Line/Space = 100nm / 100nm. Process: Immersion Lithography. Source: Internal.”

会议室里,瞬间安静了下来。

100纳米等宽等距线条!而且,是通过浸没式光刻工艺实现的!

这个结果,虽然比ASML内部已经取得的浸没式光刻实验结果,在分辨率上还有一些差距。

但考虑到对方所使用的研究平台和资源投入,这个成果的含金量,已经足以让在场的所有ASML专家,感到震惊和忌惮。

这意味着,那个来自东方的幽灵,不仅在计算光刻算法上取得了领先,在浸没式光刻的实际工艺验证方面,也已经迈出了坚实的一步。

范德文CTO的脸色,瞬间变得极其凝重。他死死地盯着屏幕上那张SEM图像,仿佛想从上面找出任何一丝伪造或夸大的痕迹。

但他找不到。以他多年的经验来判断,这张图像,是真实的。

他缓缓摘下眼镜,用麂皮绒布,反复擦拭着镜片。他的动作很慢,仿佛在借此平复内心翻江倒海的情绪。

他意识到,他精心设计的这场请君入瓮的戏码,正在逐渐演变成一场,他越来越难以掌控的亮剑对决。

而对方亮出的剑,比他预想的,要锋利得多。

会议室里,那张100纳米线宽的SEM图像,如同投入平静湖面的巨石,激起了层层叠叠的涟漪。

ASML的专家们,再也无法保持之前那种轻松而自信的姿态。

他们低声

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