r />
这不仅仅是两个人的握手,更是两家在各自领域举足轻重的企业,在历史的十字路口,做出的一个可能影响未来数十年,全球半导体产业格局的郑重选择。

当晚,林本艰拒绝了谢建军设宴款待的邀请,选择留在渊基地附近一家普通的招待所休息。

他需要时间来消化,白天所看到的一切,并为明天的正式会谈,做好最充分的准备。

而谢建军,则在送走林本艰后,独自一人,再次来到了总装大厅。

拂晓二代机静静地矗立在昏黄的灯光下,如同一尊沉默的钢铁巨兽。

他绕着机器,缓缓走了一圈,伸出手,轻轻抚摸着那冰冷的、覆盖着防尘罩的机身,感受着指尖传来的、金属特有的质感。

他知道,从明天开始,一切都将不同了。

与宝积电的合作,将不仅仅是技术上的互补,和商业上的共赢。它将像一根导火索,彻底点燃全球半导体产业格局重构的引信。

ASML、尼康、三星、英特尔......所有的玩家,都将被迫重新审视,自己的战略和定位。

而他,以及他身后的拂晓团队,将站在这场波澜壮阔的产业变革的最前沿。

夜色渐深渊基地的灯光,依然亮着。那光芒,在早春的寒夜中,显得格外明亮而坚定。

次日清晨,京城,星火基地。

一辆不起眼的考斯特中巴,在晨光中驶入基地大门。车门打开,林本艰和他的助手,在郑律师的陪同下走了下来。

与昨日在渊基地的震撼和激动不同,经过一夜的沉淀和思考,林本艰的神情已经恢复了,惯常的冷静和专注。

他穿着一件深灰色的夹克,手里拎着一个并不沉重的公文包,步履稳健。

星火基地的会议室,布置简洁而实用。没有豪华的装饰,没有多余的摆设,只有一张足以容纳二十人的长条形会议桌,几把舒适的椅子,以及墙上两块巨大的白板。

白板上还残留着一些昨夜讨论时留下的、未被完全擦除的公式和草图,透着一股浓郁的学术和工程气息。

谢建军、陈向东、刘欣已经等在会议室里。看到林本艰进来,三人同时起身,以示尊重。

“林博士,昨晚休息得可好?”谢建军迎上前去,与林本坚握手。

“非常好,谢谢谢先生关心。”林本艰微笑着回应:“魔都郊外的夜晚,比新竹要安静得多,睡得很踏实。”

几句寒暄过后,双方在会议桌两侧落座。没有过多的客套,谢建军直接切入正题:

“林博士,昨天您在渊基地,已经对我们的技术现状有了直观的了解。

今天,我们想向您介绍一下,我们对未来三到五年,浸没式光刻技术发展路线的规划和设想。

希望这些想法,能够为双方的合作,提供一个更加清晰的框架。”

他示意了一下陈向东。陈向东会意,打开笔记本电脑,连接上投影仪。一幅清晰的、标注着详细时间节点和技术指标的,浸没式光刻技术路线图,出现在了大屏幕上。

“这是我们内部代号拂晓项目的技术发展规划。”陈向东站起身,走到屏幕前,开始讲解道。

“我们的目标是:在1999年底之前,完成90纳米节点浸没式光刻机的,工程样机开发和内部验证。

在2001年,推出可用于量产线的第一代商用机型,目标分辨率65纳米。

在2003年,推出第二代商用机型,目标分辨率45纳米,并初步具备支持下一代,EUV光刻技术过渡的混合架构能力。”

他一边讲解,一边用激光笔在路线图的关键节点上圈点着。每一个目标,都伴随着具体的技术指标、关键里程碑和资源配置计划。

整个路线图,逻辑清晰,论证严谨,既有雄心勃勃的目标,也有脚踏实地的路径规划。

林本艰听得很认真,不时在本子上记录着什么。当陈向东讲到45纳米节点的技术挑战和应对策略时,他微微皱起眉头,插话问

天才1秒记住：5LA.CC

本章未完，请点击下一页继续阅读->>>